阿斯麦
- 行业
- AI 半导体设备
- 交易所
- 美股
- 国家 / 地区
- USA
- 上市日期
- 1995年3月15日
- 员工数
- 43,938
综合估值区间 · 保守 €650–€850 / 合理 €850–€1,250 / 乐观 €1,400–€1,600。以 €1,249 计，处于合理内在价值区间。
数据来源 EODHD，按报告币种列示；仅供参考，非投资建议。
ASML Holding N.V. 提供光刻解决方案，从事先进半导体设备系统的研发、生产、营销、销售、升级及服务。公司提供光刻、量测和检测系统，包括极紫外（EUV）光刻系统；深紫外（DUV）光刻系统，包括浸没式和干式光刻解决方案，用于制造各种半导体节点和技术。公司还提供量测和检测系统，包括 YieldStar 光学量测系统，一种基于衍射的晶圆量测平台，用于评估晶圆上图形的质量；以及 HMI 电子束解决方案，用于定位和分析单个芯片缺陷。此外，公司提供计算光刻解决方案，以及光刻系统和控制软件解决方案；翻新和升级光刻系统，并提供客户支持及相关服务。公司还为芯片制造商提供硬件、软件和服务，以生产集成电路的图形。公司业务覆盖日本、韩国、新加坡、中国台湾、中国大陆、其他亚洲地区、荷兰、其他欧洲国家、中东、非洲和美国。公司前身为 ASM Lithography Holding N.V.，于 2001 年更名为 ASML Holding N.V.。ASML Holding N.V. 成立于 1984 年，总部位于荷兰费尔德霍芬。
发展历史
ASML Holding N.V.（阿斯麦）成立于 1984 年，总部位于荷兰费尔德霍芬。公司前身为 ASM Lithography Holding N.V.，于 2001 年更名为 ASML Holding N.V.，其 ADR 的 IPO 日期为 1995 年 3 月 15 日。公司提供面向半导体制造的光刻、量测与检测系统，包括极紫外（EUV）光刻系统、深紫外（DUV）浸没式与干式光刻系统，以及 YieldStar 量测系统、HMI 电子束工具、计算光刻方案，并提供翻新、升级与客户支持等服务。公司员工约 43,882 人。
行业地位
在决定先进逻辑与存储工艺上限的 EUV 光刻环节，阿斯麦是当下唯一的商业化供应者；在 DUV 领域，主要竞争对手为 Canon 和 Nikon。客户为全球少数领先晶圆厂与 IDM，三大客户为 TSMC、Intel 和 Samsung；设备嵌入工艺节点后替换的转换成本极高。2025 年公司约有 5,100 家供应商，ZEISS SMT 称全球约 80% 的芯片使用其与阿斯麦合作提供的光学系统。EUV 从原型到商业化耗时接近二十年、投入数十亿欧元研发。